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公开/公告号CN103632915A
专利类型发明专利
公开/公告日2014-03-12
原文格式PDF
申请/专利权人 朗姆研究公司;
申请/专利号CN201310374385.3
发明设计人 陈志刚;埃里克·赫德森;
申请日2013-08-23
分类号H01J37/32(20060101);H01L21/67(20060101);
代理机构31263 上海胜康律师事务所;
代理人李献忠
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2024-02-19 23:19:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-10
授权
2014-04-09
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20130823
实质审查的生效
2014-03-12
公开
机译: 电子旋钮,用于调节VHF频率下的径向蚀刻不均匀性
机译:用于SiO_2蚀刻的2f-CCP中晶圆界面处的径向均匀性建模
机译:通过横向振动增强径向牛顿流和非牛顿流的径向温度均匀性和边界层发展:CFD研究
机译:VHF-CCP中电子加热和不均匀性对医疗器械灭菌的影响
机译:用于InP HEMT的高均匀性,高可重复性的非选择性湿栅凹槽蚀刻工艺
机译:用于电子材料蚀刻的高密度电子回旋共振和感应耦合等离子体源的比较:电子材料的新等离子体蚀刻方案。
机译:玻璃纤维后胶结后蚀刻漂洗和自蚀刻胶粘剂体系对树脂胶粘剂硬度均匀性的影响
机译:NaanDanJain 427喷头的径向轮廓和降水均匀性,取决于偏转器的设置NaanDanJain 427喷头的径向轮廓和降水均匀性,取决于偏转器的设置
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。