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垂直耦合表面蚀刻光栅分布反馈激光器

摘要

本发明提供一种与MGVI设计和制造方法完全兼容的LCSEG-DFB激光器,用于多功能PIC内的单增长单片集成电路。其包括台面形式的激光器PIN结构,从上发射层顶面通过有源,假定为MQW、增益区向下蚀刻至下发射器顶面。下部电触头邻近台面设置,台面设在下发射层,上接触带设在台面顶部上的上发射层。从台面顶面、上接触带之间,穿过上发射层,向下蚀刻入SCH层,限定/蚀刻成了SEG。SCH结构提供了垂直约束,台面底部中的侧面提供了横向约束。导模通过垂直翼穿透SEG及与SEG消散消散场耦合实现与SEG的相互作用。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-06-25

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01S5/12 申请公布日:20131218 申请日:20101102

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-12-18

    公开

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