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一种碳化硅肖特基势垒二极管及其制作方法

摘要

本发明涉及半导体技术,具体的说是涉及一种碳化硅肖特基势垒二极管及其制作方法。本发明所述的一种碳化硅肖特基势垒二极管,包括依次层叠设置的阴极电极、N+衬底、N-漂移区、P+层和阳极电极,其特征在于,所述P+层上有多个有固定间距的凹槽,所述阳极电极填充在凹槽内。本发明的有益效果为,降低了生成碳化硅肖特基势垒二极管工艺的难度,提高了器件的性能和成品率,同时由于具有P+层,高压时能产生电导调制效应,从而具有大的抗浪涌能力。本发明尤其适用于碳化硅肖特基势垒二极管。

著录项

  • 公开/公告号CN103400853A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201310330738.X

  • 申请日2013-08-01

  • 分类号H01L29/10(20060101);H01L29/872(20060101);H01L21/329(20060101);

  • 代理机构成都宏顺专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李顺德;王睿

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2024-02-19 21:05:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-29

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/10 申请公布日:20131120 申请日:20130801

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2013-12-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/10 申请日:20130801

    实质审查的生效

  • 2013-11-20

    公开

    公开

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