法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-29
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L29/10 申请公布日:20131120 申请日:20130801
发明专利申请公布后的驳回
2013-12-18
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/10 申请日:20130801
实质审查的生效
2013-11-20
公开
公开
机译: 用该方法制造碳化硅基质,肖特基势垒二极管和碳化硅膜及碳化硅基质的制备方法
机译: 电极膜/碳化硅结构,碳化硅肖特基势垒二极管,金属-硅碳化物半导体结构的场效应晶体管,形成电极膜的最佳方法和制造电解膜/硅化物的方法
机译: 碳化硅沟槽肖特基势垒二极管使用多晶硅和制造方法