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用于在大衬底上执行原子层沉积的具有多个分段的延伸反应器组件

摘要

一种在用于在大衬底上执行原子层沉积(ALD)的沉积设备中的伸长反应器组件。伸长反应器组件包括一个或者多个注入器和/或游离基反应器。每个注入器或者游离基反应器在衬底穿过注入器或者游离基反应器时向衬底上注入气体或者游离基作为ALD工艺的部分。每个注入器或者游离基反应器包括多个分段,其中至少两个分段具有不同截面配置。通过在注入器或者游离基反应器中提供不同分段,注入器或者游离基反应器可以在衬底之上更均匀注入其它或者游离基。每个注入器或者游离基反应器可以包括用于在沉积设备以外排出过量气体或者游离基的多于一个出口。

著录项

  • 公开/公告号CN103189543A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 思诺斯技术公司;

    申请/专利号CN201180053040.7

  • 发明设计人 李相忍;

    申请日2011-11-11

  • 分类号C23C16/00;

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2024-02-19 19:11:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-06

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C16/00 申请公布日:20130703 申请日:20111111

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-12-18

    著录事项变更 IPC(主分类):C23C16/00 变更前: 变更后: 申请日:20111111

    著录事项变更

  • 2013-07-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/00 申请日:20111111

    实质审查的生效

  • 2013-07-03

    公开

    公开

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