退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN1005884B
专利类型发明专利
公开/公告日1989-11-22
原文格式PDF
申请/专利权人 南开大学;
申请/专利号CN86100192
发明设计人 马龙;钱其璈;
申请日1986-01-12
分类号H01L27/06;H01L29/50;H01L29/68;
代理机构南开大学专利事务所;
代理人耿锡锟
地址 天津市南开区卫津路94号
入库时间 2022-08-23 08:54:33
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
1988-05-18
实质审查请求
1987-07-22
公开
机译: 在相同的半导体基板上制造半导体器件的方法,其中,将高击穿电压的MOS晶体管和低击穿电压的MOS晶体管制成,并以此制造半导体器件
机译: 高击穿电压MOS晶体管,半导体集成电路器件和高击穿电压半导体器件
机译: 晶体管vdmos poternza高性能块与mos通道p的单片集成,用于高电压,晶体管csmo而非pnp和二极管的低损耗
机译:实用级别的氧化镓MOS晶体管高击穿电压和低损耗领先于世界
机译:具有虚拟二极管连接的MOS晶体管的高PSRR带隙基准电压源
机译:LDMOS晶体管中的周期性沟槽区域:具有高击穿电压的新型可靠结构
机译:温度对高功率低电压电压MOS-双极晶体管模块的影响
机译:开发了用于多阈值电压应用的n-MOS到p-MOS可调谐单金属栅极/高kappa绝缘体器件的创新制造方法。
机译:AlN /蓝宝石模板上的薄沟道AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管中的高横向击穿电压
机译:使用静电感应晶体管(SIT)和场效应晶体管(FET)为负高直流电压开关电路。
机译:高K场效应晶体管偏置温度不稳定性测量中的异常漏电压依赖性