公开/公告号CN103057133A
专利类型发明专利
公开/公告日2013-04-24
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司;
申请/专利号CN201110317878.4
发明设计人 王红卫;
申请日2011-10-19
分类号B29C71/04;
代理机构
代理人
地址 215000 江苏省苏州市苏州高新技术产业开发区泰山路2号
入库时间 2024-02-19 17:52:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-11-04
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B29C71/04 申请公布日:20130424 申请日:20111019
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-08-14
实质审查的生效 IPC(主分类):B29C71/04 申请日:20111019
实质审查的生效
2013-04-24
公开
公开
机译: 用于执行等离子体处理的等离子体处理设备,例如膜沉积过程,表面改性过程以及对大矩形基板的蚀刻过程及其等离子体处理方法
机译: 高分子材料大气压辉光放电等离子体处理方法及装置
机译: 使用微等离子体的表面改性处理方法和结合方法