一种改善光刻机对准精度的方法

摘要

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种改善光刻机对准精度的方法。本发明提出一种改善光刻机对准精度的方法，通过在芯片完成光阻旋涂、烘烤工艺后，对准曝光工艺前，于该芯片上旋涂一层水溶性物质，以用来改变光对准工艺中整个介质的折射率，进而利用介质折射率的变化来调节对准光路的光程差，增强对准干涉光的强度，提高对准信号的信噪比，有效提高光刻对准的精度，提高产品的良率，降低生产成本。