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一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法

摘要

一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法,能够实现将单片曝光变成卷对卷连续曝光,能够克服收放卷机构的收板长度误差、片间距误差的技术问题。基于卷对卷无掩模激光直写光刻设备,包括以下步骤:在片对卷的生产模式下,自动搜索对位靶标后开始对准;使用上一片的对准结果,计算出累计进板误差,自动修正下一片的对位参数后再执行曝光过程。本发明克服了卷对卷无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准问题,针对片对卷在生产过程中产生的进片误差和片间距误差,片对准记录的靶点坐标作为对准相机的定位标识,修正了进片误差和片间距误差,节省了相机搜索靶标的时间。

著录项

  • 公开/公告号CN110632826A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥芯碁微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201910815576.6

  • 发明设计人 董帅;谢传明;

    申请日2019-08-30

  • 分类号

  • 代理机构合肥天明专利事务所(普通合伙);

  • 代理人苗娟

  • 地址 230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层

  • 入库时间 2024-02-19 16:49:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-18

    著录事项变更 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 申请日:20190830

    著录事项变更

  • 2020-01-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20190830

    实质审查的生效

  • 2019-12-31

    公开

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