公开/公告号CN110632826A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-12-31
原文格式PDF
申请/专利权人 合肥芯碁微电子装备有限公司;
申请/专利号CN201910815576.6
申请日2019-08-30
分类号
代理机构合肥天明专利事务所(普通合伙);
代理人苗娟
地址 230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
入库时间 2024-02-19 16:49:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-18
著录事项变更 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 申请日:20190830
著录事项变更
2020-01-24
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20190830
实质审查的生效
2019-12-31
公开
公开
机译: 无掩模光刻设备及其补偿旋转对准误差的方法
机译: 一种生产自对准下罗姆的方法-当通过植入掩膜的后处理进行接触时
机译: 一种在含铁碳酸钙溶液中蒸发含碳酸氢盐的溶液时生产无铁碱金属碳酸盐的方法