首页> 中国专利> 一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置及测试方法

一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置及测试方法

摘要

本发明公开了一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置及测试方法。所述的测试装置包括沿光轴方向依次设置的光源、聚光透镜、准直透镜、起偏器、相位补偿器、检偏器、成像镜头和相机,待测晶体置于相位补偿器和检偏器之间,所述的相位补偿器由两块光楔构成,通过调节两块光楔的相对位置来调节相位延迟量,其中所述光楔的材质为成分与待测晶体相同且光学均匀性好的晶体。本发明所述装置结构简单、成本低廉且便于维护。与传统测试方法相比,本发明所述方法无需反复测试背景干扰及不同偏振态激光通过晶体形成干涉图,受环境影响小,测试效率高、适合批量化的生产检测;而且本发明所述方法操作简单、对测试晶体的加工要求不高,易于推广使用。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/45 申请日:20191017

    实质审查的生效

  • 2019-12-20

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号