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在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法

摘要

本发明涉及一种在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法,该方法包括以下步骤:(a)提供pH在4.1至7.0的范围内的含水沉积浴,‑包含三价铬离子,‑基于沉积浴的总体积,包含0 mg/L至200 mg/L的六价铬,和‑不包含含硼化合物,(b)提供至少一个基底和至少一个阳极,(c)将所述至少一个基底浸入所述含水沉积浴中并施加直流电,使得所述铬或铬合金层沉积在所述至少一个基底上,其中所述至少一个基底形成具有总阴极电流密度的阴极,并且所述至少一个阳极具有总阳极电流密度,附带条件是‑总阳极电流密度为6 A/dm

著录项

  • 公开/公告号CN110446802A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 安美特德国有限公司;

    申请/专利号CN201880022274.7

  • 发明设计人 A.瓦尔特;O.耶夫图申科;F.保利希;

    申请日2018-04-04

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人周蓉

  • 地址 德国柏林

  • 入库时间 2024-02-19 16:11:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/06 申请日:20180404

    实质审查的生效

  • 2019-11-12

    公开

    公开

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