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使用两个源极测量单元的设备测量

摘要

一种测试环境包括:第一测量单元,连接到MOSFET设备的栅极;以及第二测量单元,连接到所述MOSFET设备的漏极。所述测试环境对于测试针对MOSFET设备的栅极电荷而言特别有用。在第一阶段中,利用电流驱动设备的栅极,同时利用恒定电压驱动漏极。随着所述MOSFET设备接通,所述第二测量单元从提供所述恒定电压切换到提供恒定电流到MOSFET的漏极,同时测量漏电压。模式的切换是自动的,且在没有用户干预的情况下发生。在所述MOSFET设备已经被栅电流驱动到VgsMax之后,所有相关数据被存储,可以分析该所有相关数据并在用户界面中将该所有相关数据呈现给用户,或者以其他方式呈现该所有相关数据。

著录项

  • 公开/公告号CN110488171A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 基思利仪器有限责任公司;

    申请/专利号CN201910384079.5

  • 发明设计人 A.N.普罗宁;M.A.图普塔;

    申请日2019-05-09

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人张健

  • 地址 美国俄亥俄州

  • 入库时间 2024-02-19 16:11:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-22

    公开

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