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一种掺杂浓度可调的横向SiGe异质结双极晶体管

摘要

本发明公开了一种掺杂浓度可调的横向SiGe异质结双极晶体管,为NPN型或PNP型横向SiGe HBT。通过在NPN型器件发射区和基区下方衬底电极加正电压(或在PNP型器件发射区和基区下方衬底电极加负电压),可有效增大发射区掺杂浓度并减小基区掺杂浓度,同时提高电流增益和特征频率;通过在NPN型器件集电区下方衬底电极加负电压(或在PNP型器件集电区下方衬底电极加正电压),可有效降低集电区掺杂浓度,提高击穿电压。与常规横向SiGe HBT相比,所述晶体管可通过改变位于发射区、基区和集电区下方衬底电极的外加电压来独立调节上述三个区的掺杂浓度,从而实现特征频率、电流增益和击穿电压的同步提高。

著录项

  • 公开/公告号CN110556420A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN201910781958.1

  • 申请日2019-08-23

  • 分类号

  • 代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘萍

  • 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2024-02-19 15:57:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/737 申请日:20190823

    实质审查的生效

  • 2019-12-10

    公开

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