在处理腔室中防止工件上的材料沉积

摘要

本公开提供了一种用于等离子体处理设备的聚焦环组件。在一个示例性实施方式中，设备包括配置成生成等离子体的等离子体源。该设备包括配置成接收工件的腔室。该设备包括容纳在腔室中并且配置成支撑工件的工件支撑件。该设备包括聚焦环组件。聚焦环组件包括具有上层和下层的聚焦环。上层的内边缘可以从位于工件支撑件上的工件的外边缘分开至少约3mm的侧向距离。