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半导体结构、高电子迁移率晶体管及半导体结构制造方法

摘要

本发明提供了一种半导体结构、高电子迁移率晶体管及半导体结构制造方法,半导体结构包含基底、可流动介电材料以及氮化镓系(GaN‑based)半导体层。基底具有坑洞(pit)从该基底的上表面暴露出来,可流动介电材料填满坑洞,并且氮化镓系半导体层设置在基底和可流动介电材料之上。本发明可以提升半导体装置的制造良品率,并降低工艺成本。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20180511

    实质审查的生效

  • 2019-11-19

    公开

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