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在基板的突出部上包括接触部的垂直FET器件

摘要

提供了VFET器件。一种VFET器件包括基板,该基板包括第一突出部和第二突出部。该VFET器件包括位于第一突出部和第二突出部之间的隔离区域。该VFET器件包括分别位于第一突出部和第二突出部上的第一硅化物区域和第二硅化物区域。此外,该VFET器件包括位于第一硅化物区域和第二硅化物区域上的接触部。还提供了形成VFET器件的相关方法。

著录项

  • 公开/公告号CN110504320A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN201910405404.1

  • 申请日2019-05-15

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人吴晓兵

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2024-02-19 15:48:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-26

    公开

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