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氧化层缺陷现象风险评估测试键及利用其的测试方法

摘要

本发明涉及氧化层缺陷现象风险评估测试键及利用其的测试方法,涉及半导体集成电路可靠性测试,通过在氧化层缺陷现象风险评估测试键中设置多个测试结构,每个测试结构的栅极区由多个子栅极区按矩阵排列构成,因此可通过设置栅极区中子栅极区的个数得到不同面积的栅极区,再配合外围的金属线和二极管,可实现对尺寸不同的测试结构同时进行栅氧层缺陷风险评估,从而减少常规测结构的数量以及测试时间。

著录项

  • 公开/公告号CN110504184A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN201910794555.0

  • 发明设计人 纪文强;尹彬锋;吴奇伟;周柯;

    申请日2019-08-27

  • 分类号

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人张彦敏

  • 地址 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2024-02-19 15:48:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20190827

    实质审查的生效

  • 2019-11-26

    公开

    公开

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