一种用于晶体硅酸性抛光的添加剂及酸性抛光方法

摘要

本发明提供了一种用于晶体硅酸性抛光的添加剂及酸性抛光方法，抛光添加剂按质量百分比计，将以下原料组分：0.1％～5％的柠檬酸钠，0.1％～10％的十二烷基苯磺酸钠，0.01％～1％的木质素磺酸钠，0.001％～1％的聚苯乙烯磺酸钠，余量的去离子水。本添加剂能够促使较低浓度的硝酸、氢氟酸腐蚀液对硅片背面进行腐蚀，还可以提升腐蚀液对硅片背面的抛光效果，获得更为平整的表面。在应用于晶体硅片抛光时，以低于常规酸抛工艺的酸浓度获得优异的抛光效果，降低后续的酸液补加量，能够大幅度降低生产成本。