首页> 中国专利> 一种4H-SiC像素肖特基辐射探测器及其制备方法

一种4H-SiC像素肖特基辐射探测器及其制备方法

摘要

本发明公开了一种4H‑SiC像素肖特基辐射探测器及其制备方法。本发明的探测器,其特征在于,包括一像素阵列,其中该像素阵列中每个像素单元的结构自下而上依次为欧姆接触、SiC衬底、SiC外延层以及肖特基接触。其中每个像素单元会同时测量粒子的能量、到达每一个像素单元的时间以及单位时间内所探测到的粒子数等信息,根据这些数据之间的差异,所设计的结构实现一定的位置分辨能力。而且相较于传统单元SiC辐射探测器,所设计的像素辐射探测器,当其中某个像素单元出现损坏时并不影响整个探测器继续工作。

著录项

  • 公开/公告号CN110265500A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院高能物理研究所;

    申请/专利号CN201910499916.9

  • 申请日2019-06-11

  • 分类号

  • 代理机构北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人司立彬

  • 地址 100049 北京市石景山区玉泉路19号乙

  • 入库时间 2024-02-19 14:44:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/028 申请日:20190611

    实质审查的生效

  • 2019-09-20

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号