蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法

摘要

本发明涉及蒙版框架及其制备方法、以及蒙版，所述蒙版框架具备：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜，所述蒙版具备：该蒙版框架、和在上述蒙版框架的一个端面设置的蒙版膜。