首页> 中国专利> 一种实现PN结整流特性的结构

一种实现PN结整流特性的结构

摘要

本发明提供一种实现PN结整流特性的结构,包括:衬底、以及从所述衬底向上依次排列的第一n‑GaN层、第一InGaN量子阱层、第一GaN层、AlGaN势垒层、第二GaN层、第二InGaN量子阱层和第二n‑GaN层。本发明的结构能够实现良好的整流特性。

著录项

  • 公开/公告号CN110391291A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN201810364841.9

  • 申请日2018-04-23

  • 分类号

  • 代理机构北京泛华伟业知识产权代理有限公司;

  • 代理人王勇

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村南三街8号

  • 入库时间 2024-02-19 14:26:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/15 申请日:20180423

    实质审查的生效

  • 2019-10-29

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号