首页> 中国专利> 微通道器件及其制造方法、微流控系统

微通道器件及其制造方法、微流控系统

摘要

本公开涉及微通道器件。微通道器件可以包括微通道结构和半导体结。微通道结构可以包括基层、间隔地分布在基层上的多个轨道、以及包括多个柱的覆盖层。覆盖层和基层被配置为形成多个微通道。半导体结可以包括沿第一方向堆叠的P型半导体层、本征半导体层和N型半导体层。

著录项

  • 公开/公告号CN110191760A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;

    申请/专利号CN201980000501.0

  • 申请日2019-04-16

  • 分类号B01L3/00(20060101);

  • 代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘悦晗;陈源

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

  • 入库时间 2024-02-19 14:26:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01L3/00 申请日:20190416

    实质审查的生效

  • 2019-08-30

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号