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一种纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法

摘要

本发明提供了一种纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法。所述纳米压印模板包括功能区和非功能区;所述非功能区分为第一非功能区和第二非功能区,所述第一非功能区围绕所述功能区并与所述功能区相邻,所述非功能区上除去第一非功能区的区域为第二非功能区;所述第一非功能区的高度高于所述功能区和所述第二非功能区的高度。所述纳米压印模板是在现有的纳米压印凹模板的基础上进行整形得到。相较于现有的纳米压印凹模板,本发明提供的纳米压印模板在保证模板强度的同时,能够降低压印压力,提高图案转移质量,提高压印良率,延长模板寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN110333643A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国家纳米科学中心;

    申请/专利号CN201910721247.5

  • 发明设计人 李晓军;

    申请日2019-08-06

  • 分类号

  • 代理机构北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人巩克栋

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村北一条11号

  • 入库时间 2024-02-19 13:49:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20190806

    实质审查的生效

  • 2019-10-15

    公开

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