退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN110333643A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-10-15
原文格式PDF
申请/专利权人 国家纳米科学中心;
申请/专利号CN201910721247.5
发明设计人 李晓军;
申请日2019-08-06
分类号
代理机构北京品源专利代理有限公司;
代理人巩克栋
地址 100190 北京市海淀区中关村北一条11号
入库时间 2024-02-19 13:49:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-11-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20190806
实质审查的生效
2019-10-15
公开
机译: 用于纳米压印的模板,使用用于纳米压印的模板形成图案的方法以及用于生产纳米压印的模板的方法
机译: 模板基板,用于纳米压印的模板以及用于制造纳米压印模板的方法
机译: 模板制造方法,模板检查方法及检查装置,纳米压印装置,纳米压印系统以及装置的制造方法
机译:纳米压印蛾眼结构制备方法的评价实验
机译:纳米压印模板上的SEM CD计量:一种分析SEM方法
机译:聚焦电场诱导的离子迁移:一种新颖的纳米压印方法
机译:基于UV纳米压印光刻和热压印的二维二氧化硅光子晶体的偏振调制与制备方法
机译:使用聚合物模板膜的聚合物双级纳米压印模具的制造
机译:一种快速简化的蒽制备方法的研究。