公开/公告号CN110317174A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-10-11
原文格式PDF
申请/专利权人 东京应化工业株式会社;
申请/专利号CN201910242189.8
申请日2019-03-27
分类号C07D233/60(20060101);C07D487/04(20060101);C07F9/22(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/027(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人杨宏军;李国卿
地址 日本神奈川县
入库时间 2024-02-19 13:22:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-11
公开
公开
机译: 氢气阻隔剂,氢阻挡膜形成组合物,氢阻挡膜,生产氢气阻隔膜的方法和电子元件
机译: 氢阻挡剂,氢阻挡膜形成用组合物,氢阻挡膜,氢阻挡膜的制造方法以及电子元件
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