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一种采用全耗尽绝缘硅FD-SOI场效应管的MRAM存储芯片

摘要

本发明公开了一种采用全耗尽绝缘硅FD‑SOI场效应管的MRAM存储芯片及调节栅极电位的设计方法,所述MRAM存储阵芯片的每个MRAM存储单元的场效应管采用全耗尽绝缘硅FD‑SOI场效应管,包括一个体电位控制单元。工作状态下FD‑SOI场效应管的背栅极电位V_body的值Vb可灵活配置为适当范围内的任意值。所述设计方法写0方向时:源线电位V_SL设为V0+Vb,位线电位V_BL设为0,栅极(字线)电位V_G设为Vdd+Vb。写1方向时:源线电位V_SL设为Vb,位线电位V_BL设为V1+Vb,栅极(字线)电位V_G设为Vdd+Vb。本发明能够消除体硅场效应管存在的闩锁效应,可以调节背栅极电位,解决写电路提供的驱动电流不足的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN110197680A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海磁宇信息科技有限公司;

    申请/专利号CN201810157448.2

  • 发明设计人 叶力;戴瑾;

    申请日2018-02-24

  • 分类号G11C11/16(20060101);

  • 代理机构31287 上海容慧专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人于晓菁

  • 地址 201800 上海市嘉定区城北路235号二号楼二层

  • 入库时间 2024-02-19 13:13:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11C11/16 申请日:20180224

    实质审查的生效

  • 2019-09-03

    公开

    公开

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