折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜

摘要

本发明公开了折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜，包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。传统的介质膜的折射率固定不变，本发明中，采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，可以据需求实现多种颜色膜的制备，呈现丰富多彩的不同颜色，使颜色膜的制备更具灵活性和多变性，镀膜工艺稳定、简单，对设备配置要求较低，从而减少了设备投入，节省了镀膜成本。