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一种提高离子注入剂量控制精度的方法和系统

摘要

本发明公开了一种提高离子注入剂量控制精度的方法和系统,其中,所述方法包括:获取束流束斑的径向分布;根据所述束斑的径向分布,计算束斑质心到靶盘中心的距离,即束斑的质心值R;根据公式计算靶盘径向扫描速度V;驱动所述靶盘以所述径向扫描速度V做径向扫描,同时驱动靶盘旋转做圆环扫描。本发明实施例利用束斑质心到靶盘中心的距离代替束斑中心到靶盘中心的距离计算靶盘径向扫描速度V,克服了束斑分布的变化带来的注入剂量不稳定的问题,实现注入剂量的高精度控制。

著录项

  • 公开/公告号CN110085500A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910404828.6

  • 发明设计人 唐绍根;黄磊;邓建国;

    申请日2019-05-15

  • 分类号H01J37/317(20060101);H01L21/265(20060101);

  • 代理机构50221 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘佳

  • 地址 400060 重庆市南岸区南坪花园路14号

  • 入库时间 2024-02-19 12:40:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/317 申请日:20190515

    实质审查的生效

  • 2019-08-02

    公开

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