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物理气相沉积腔室中的颗粒减量

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摘要

本文提供用于在处理腔室中进行的处理中减少产生的颗粒的方法和设备。在一些实施方式中，处理配件屏蔽件包括：主体，该主体具有表面，该表面面向物理气相沉积(PVD)处理腔室的处理空间，其中该主体由氧化铝(Al

1. 物理气相沉积腔室中的颗粒减量 [P] . 中国专利： CN110062950A . 2019-07-26
2. 用于在物理气相沉积腔室中的准直器 [P] . 中国专利： CN110073463A . 2019-07-30
3. METHOD FOR PREPARING A SHIELD TO REDUCE PARTICLES IN A PHYSICAL VAPOR DEPOSITION CHAMBER [P] . 韩国专利： KR100272111B1 . 2000-11-15

机译：在物理气相沉积腔室中制备屏蔽以减少颗粒的方法
4. METHOD FOR PREPARING SHIELD TO REDUCE PARTICLES IN PHYSICAL VAPOR DEPOSITION CHAMBER [P] . 韩国专利： KR100226809B1 . 1999-10-15

机译：减少物理气相沉积腔室中的颗粒的方法
5. A method for the preparation of a diaphragm for reduction of particles in a chamber for the physical vapor deposition. [P] . 德国专利： DE69111490T2 . 1996-04-18

机译：一种制备隔膜的方法，该隔膜用于减少用于物理气相沉积的腔室中的颗粒。