在去除美容品污渍中作为活性成分的甘油乙氧基化物

摘要

用于从基底上去除化妆品材料的组合物包括甘油乙氧基化物和直链烷基苯磺酸盐(LABS)。向在白色涤棉混纺织物处包括化妆品材料的沉积物以提供被玷污的涤棉混纺织物的污渍施加所述组合物，表现出增加的污渍去除率，其是作为在460nm处观察到的与在所述施加之前在所述被玷污的涤棉混纺织物处观察到的反射率相比增加至少约35％的反射率测量的。包括被施加到所述被玷污的涤棉混纺织物的组合物的处理提供的在所述被玷污的涤棉混纺织物处的反射率，大于在被化妆品材料的沉积物玷污的并且已经用所述甘油乙氧基化物单独处理或者已经用所述直链烷基苯磺酸盐单独处理的白色涤棉混纺织物处观察到的反射率。