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具有拥有不同功函数层的晶体管的半导体器件

摘要

一种半导体器件可以包括具有第一区域和第二区域的衬底。第一晶体管可以在第一区域中并包括第一栅极线,第一栅极线包括第一下部含金属层和在第一下部含金属层上的第一上部含金属层。第二晶体管可以在第二区域中并包括第二栅极线,第二栅极线具有与第一栅极线的宽度相等的宽度,并且包括第二下部含金属层和在第二下部含金属层上的第二上部含金属层。第一上部含金属层的最上端和第二下部含金属层的最上端的每个可以在比第一下部含金属层的最上端高的水平处。

著录项

  • 公开/公告号CN109830479A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN201811405041.3

  • 申请日2018-11-23

  • 分类号H01L27/092(20060101);H01L29/49(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人张波

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2024-02-19 10:37:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-31

    公开

    公开

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