用于校准光学轮廓仪粗糙度的线距样板及制备方法

摘要

本发明提供了一种用于校准光学轮廓仪粗糙度的线距样板及制备方法，属于标准件技术领域，包括基板，基板上并列设有多条线条，线距周期为线条宽度的两倍，线条的深度与样板的标称粗糙度对应，基板为硅片。本发明提供的用于校准光学轮廓仪粗糙度的线距样板，以不透明硅片为衬底，提高反射率，在硅片上采用反应离子刻蚀工艺制备多线条样板，这种利用刻蚀工艺制备的多线条样板，能够准确控制样板上的线条的深度和线条的宽度，提高标准样件的精度，进而提高光学轮廓仪校准的准确性。