公开/公告号CN109825568A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-05-31
原文格式PDF
申请/专利权人 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院;
申请/专利号CN201910019814.2
申请日2019-01-09
分类号
代理机构北京三友知识产权代理有限公司;
代理人刘鑫
地址 100850 北京市海淀区太平路27号院
入库时间 2024-02-19 09:57:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-25
实质审查的生效 IPC(主分类):C12Q1/6883 申请日:20190109
实质审查的生效
2019-05-31
公开
公开
机译: 从过滤器系统所排放的辐射中,发射线源和该发射线源是为了使过滤器从由从光刻设备排放的发射线源所排放的辐射中去除颗粒,以及从排放线具有过滤器系统以使过滤器去除谷物的装置和装置以及与处理系统一起具有的那种装置以处理放射线,是由经过过滤的,经过调节的零辐射线源所排放的放射线
机译: 光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,光化射线敏感或辐射敏感的膜,具有光化射线敏感或辐射敏感的膜的掩模坯料,图案形成方法和方法制造电子设备
机译: 光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,用于光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的树脂的制造方法,光化射线敏感或辐射敏感的膜,图案形成方法以及电子设备的制造方法