使用具有多种材料的层对基底进行图案化的方法

摘要

本文的技术使得能够集成堆叠材料和多种颜色的材料并且不需要腐蚀性气体来进行蚀刻。该技术能够实现用于自对准图案缩小的多线层，其中所有层或颜色或材料可以限于含硅材料和有机材料。这样的技术能够利用用于自对准阻挡的完全非腐蚀性蚀刻相容堆叠实现5nm后段制程沟槽图案化的自对准阻挡集成。实施方案包括使用材料相同但高度不同的线，以基于材料的种类和/或材料高度和蚀刻速率提供对数条线中的一者的蚀刻选择性。