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用于清洁真空腔室的方法、用于真空处理基板的设备和用于制造具有有机材料的装置的系统

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本公开内容提供了一种用于清洁真空腔室(210)的方法(100)。所述方法(100)包括降低所述真空腔室(210)中的压力，以蒸发容纳在所述真空腔室(210)中的溶剂的至少一部分。

著录项

公开/公告号CN109154065A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-01-04

原文格式PDF
申请/专利权人应用材料公司;
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申请/专利号CN201880002084.9
发明设计人斯蒂芬·凯勒;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;李宰源;安食高志;
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申请日2018-03-28
分类号C23C14/04(20060101);B08B7/00(20060101);C23C14/12(20060101);C23C16/44(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2024-02-19 09:35:35

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-01-29

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/04 申请日:20180328

实质审查的生效
2019-01-04

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