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离子植入机及离子植入方法

摘要

本发明涉及半导体设备制造技术领域,公开了一种离子植入机及离子植入方法,其中离子植入机包括:离子源结构,离子源结构所采用的离子源为电感耦合等离子体源;分析磁体,与离子源结构连接,能够接收离子源结构提供的植入离子束,并分离得到植入离子束;价态转换装置,与分析磁体连接,能够接收从分析磁体出射的植入离子束,并对植入离子束中离子的价态进行转化。本发明提供的离子植入机的离子源结构通过电感耦合等离子技术形成需要植入的等离子体。由于在离子源结构的整个工作过程中不需要金属器件参与,因此从源头减少了金属离子的产生。并且通过价态转换装置能够对植入离子束中的离子的价态进行转化,从而提高离子植入机的适用性。

著录项

  • 公开/公告号CN109192646A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德淮半导体有限公司;

    申请/专利号CN201811056894.0

  • 发明设计人 田成俊;洪纪伦;吴宗祐;林宗贤;

    申请日2018-09-11

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构31291 上海立群专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人杨楷;毛立群

  • 地址 223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

  • 入库时间 2024-02-19 08:29:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20180911

    实质审查的生效

  • 2019-01-11

    公开

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