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分布反馈半导体激光器芯片测试过程中降低温升影响方法

摘要

本发明公开分布反馈半导体激光器芯片测试过程中降低温升影响方法,包括以下步骤:连续施加脉冲电流I

著录项

  • 公开/公告号CN109375088A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉盛为芯科技有限公司;

    申请/专利号CN201810905896.6

  • 发明设计人 邱德明;张振峰;杨国良;

    申请日2018-08-10

  • 分类号

  • 代理机构武汉维创品智专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人余丽霞

  • 地址 430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区大学园路20号武汉普天科技园2大楼一层103-2室

  • 入库时间 2024-02-19 06:57:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R31/28 申请日:20180810

    实质审查的生效

  • 2019-02-22

    公开

    公开

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