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衬底支架、光刻装置、器件制造方法和制造衬底保持器的方法

摘要

一种用于光刻装置的衬底支架,包括具有提供在其表面上的薄膜叠层的主体。薄膜叠层形成电子或电气组件,如电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件,并且具有顶部隔离层。用于支承衬底(W)的多个粒结形成在薄膜叠层上或薄膜叠层的孔径中。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20130117

    实质审查的生效

  • 2019-01-22

    公开

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