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具有嵌埋位线的存储器阵列及形成存储器阵列的方法

摘要

本发明涉及具有嵌埋位线的存储器阵列及形成存储器阵列的方法,其披露一种结构,其中,存储器阵列中的存储器单元的垂直场效应晶体管(VFET)的下方源/漏区在嵌埋位线上方对齐并与其电性连接。各单元包括具有下方源/漏区、上方源/漏区以及垂直延伸于该些源/漏区之间的至少一个沟道区的VFET。该下方源/漏区在嵌埋位线上方并与其紧邻,该位线具有与该下方源/漏区相同或与其相比较窄的宽度,且该位线包括一对位线段以及横向位于该些段之间的半导体区。该半导体区由与该下方源/漏区不同的半导体材料制成。本发明还披露一种方法,以确保可获得具有所需关键尺寸的位线并允许在最小位线耦合下的该存储器阵列的尺寸微缩。

著录项

  • 公开/公告号CN109309092A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 格芯公司;

    申请/专利号CN201810394457.3

  • 发明设计人 臧辉;杰罗米·希瓦提;李德宝;

    申请日2018-04-27

  • 分类号

  • 代理机构北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 英属开曼群岛大开曼岛

  • 入库时间 2024-02-19 06:42:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/108 申请日:20180427

    实质审查的生效

  • 2019-02-05

    公开

    公开

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