首页> 外文OA文献 >Dose field formation in thin films irradiated by electron beams: comparison of the Monte Carlo simulation with dosimetry
【2h】

Dose field formation in thin films irradiated by electron beams: comparison of the Monte Carlo simulation with dosimetry

机译:电子束辐照薄膜中的剂量场形成:蒙特卡罗模拟与剂量学的比较

摘要

The simulation of the absorbed dose distribution into thin films with different thickness inserted between flat boundaries of two homogeneous materials as well as the absorbed dose distribution near to boundaries of these materials irradiated with a scanned electron beam were fulfilled. Films inserted in multi-layer targets were parallel orientated with an incident electron beam (EB). The simulation was performed by the Monte Carlo (MC) method with utilization of the software ModePEB which was designed for predictions of a dose distribution in heterogeneous targets irradiated by EB with the electron energy range from 0.1 to 25 MeV. udComparison results of MC simulation with dosimetry for electron dose distribution formation in multi-layer targets with thin films is discussed. Проведено моделирование распределения поглощенной дозы в тонких пленках разной толщины, расположенных между плоскими границами двух гомогенных материалов, а также распределения поглощенной дозы вблизи границы этих материалов, облучаемых сканирующим пучком электронов. Пленки в многослойных мишенях были ориентированы параллельно падающему пучку электронов. Моделирование проводилось методом Монте Карло с использованием программы ModePEB, разработанной для предсказаний распределения дозы в гетерогенных мишенях, облучаемых пучком электронов с энергией от 0.1 до 25 МэВ. Обсуждается сравнение результатов Монте Карло моделирования с дозиметрией для формирования распределения дозы электронов в многослойных мишенях с тонкими пленками.udПроведено моделювання розподілу поглиненої дози в тонких плівках різної товщини, розташованих між плоскими границями двох гомогенних матеріалів, а також розподіл поглиненої дози біля границі цих матеріалів, що опромінюються сканованим пучком електронів. Плівки у багатошарових мішенях були орієнтовані паралельно падаючому пучку електронів. Моделювання проводилось методом Монте Карло із використанням програми ModePEB, яку розроблено для передбачення розподілу дози в гетерогенних мішенях, що опромінюються пучком електронів з енергією від 0.1 до 25 МеВ. Обговорюються порівняння результатів Монте Карло моделювання із дозиметрією для формування розподілу дози електронів у багатошарових мішенях із тонкими плівками.
机译:对两种均匀材料的平坦边界之间插入厚度不同的薄膜中的吸收剂量分布进行了模拟,以及用扫描电子束辐照了这些材料的边界附近的吸收剂量分布。将插入多层靶中的薄膜与入射电子束(EB)平行定向。模拟是通过蒙特卡洛(MC)方法利用ModePEB软件进行的,该软件设计用于预测电子能量为0.1至25 MeV的EB辐射的异质靶中的剂量分布。 ud讨论了将MC模拟与剂量学在薄膜多层靶中形成电子剂量分布的比较结果。 Проведеномоделированиераспределенияпоглощеннойдозывтонкихпленкахразнойтолщины,расположенныхмеждуплоскимиграницамидвухгомогенныхматериалов,атакжераспределенияпоглощеннойдозывблизиграницыэтихматериалов,облучаемыхсканирующимпучкомэлектронов。 Пленкивмногослойныхмишеняхбылиориентированыпараллельнопадающемупучкуэлектронов。 МоделированиепроводилосьметодомМонтеКарлосиспользованиемпрограммыModePEB,разработаннойдляпредсказанийраспределениядозывгетерогенныхмишенях,облучаемыхпучкомэлектроновсэнергиейот0.1до25МэВ。 ОбсуждаетсясравнениерезультатовМонтеКарломоделированиясдозиметриейдляформированияраспределениядозыэлектроноввмногослойныхмишеняхстонкимипленками。udПроведеномоделюваннярозподілупоглиненоїдозивтонкихплівкахрізноїтовщини,розташованихміжплоскимиграницямидвохгомогеннихматеріалів,атакожрозподілпоглиненоїдозибіляграниціцихматеріалів, .оопромінютьсясканованимпучкомелектронів。 Плівкиубагатошаровихмішеняхбулиорієнтованіпаралельнопадаючомупучкуелектронів。 МоделюванняпроводилосьметодомМонтеКарлоізвикористаннямпрограмиModePEB,якурозробленодляпередбаченнярозподілудозивгетерогеннихмішенях,щоопромінюютьсяпучкомелектронівзенергієювід0.1до25МеВ。 ОбговорюютьсяпорівняннярезультатівМонтеКарломоделюванняіздозиметрієюдляформуваннярозподілудозиелектронівубагатошаровихмішеняхізтонкимиплівками。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号