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Materials and Processes of Negative Tone Development for Double Patterning Process

机译：双图案化工艺负极发展的材料和过程

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Shinji Tarutani; Hideaki Tsubaki; Sou Kamimura;
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年度 2009
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2. Development of Materials and Processes for Double Patterning toward 32 nm Node ArF Immersion Lithography [J] . Shinji Tarutani, Hideaki Tsubaki, Shinichi Kanna Journal of Photopolymer Science and Technology . 2008,第5期

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3. Study of Development Processes for ZEP-520 as a High-Resolution Positive and Negative Tone Electron Beam Lithography Resist [J] . Mohammad Ali Mohammad, Kirill Koshelev, Taras Fito, Japanese journal of applied physics . 2012,第6Issue2期

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6. An Overview of Recent Development in Composite Catalysts from Porous Materials for Various Reactions and Processes [O] . Zaiku Xie, Zhicheng Liu, Yangdong Wang, 2010

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