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机译:在钨和钨钽合金中高通量氘血浆诱导的修饰深度分析
Y. Zayachuk; A. Manhard; M.H.J. t Hoen; W. Jacob; P.A. Zeijlmans van Emmichoven; G. van Oost;
机译:钨和钨钽合金中高通量氘等离子体引起的改性的深度剖析
机译:高通量氘等离子体暴露的钨和钨钽合金的表面改性及其对氘保留的影响
机译:离子通量对钨和钨钽合金中等离子体诱导的改性和氘保留的影响
机译:钨和钼暴露于低能量,高通量氘质等离子体的表面改性和氘保留
机译:钨钽合金的性能作为相关融合条件的等离子体面向等离子体
机译:等轴纳米晶钨和超细钨-TiC合金的原位氦注入和对氦气气泡损伤的辐射耐受性的TEM研究
机译:暴露于高通量氘血浆的钨和钨钽合金的表面改性及其对氘保留的影响
机译:基于碳化钨和复杂的钛-钽-钨碳化物的硬质合金生产方法
机译:电解去除锆,ha,钨,铌,钽,铬,钨或它们的合金或钼的方法
机译:用于半导体器件的金-钽-钛/钨合金触点,在金和合金元素中间具有金/钽金属间阻挡层
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