首页> 外文OA文献 >Thermoionic Vacuum Arc (TVA) - one of the best suitable method for high purity compact smooth thin films deposition
【2h】

Thermoionic Vacuum Arc (TVA) - one of the best suitable method for high purity compact smooth thin films deposition

机译:Thermionic Vacuum Arc(TVA)-最适合高纯度致密光滑薄膜沉积的方法之一

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Описан метод термоионной вакуумной дуги (ТВД) как новый наиболее подходящий метод для осаждения тонких пленок высокой чистоты с компактной структурой и очень гладких, удобный для получения пленок с наноструктурой. ТВД может производить источник плазмы чистых металлов внутри вакуумной камеры (включая высоковольтные условия), обеспечивая эффективную ионную бомбардировку наносимой пленки атомами напыляемого материала. Энергия ионов полностью контролируется и даже может изменяться в течение осаждения. Описана также возможность нанесения тонких пленок углерода, эти пленки полностью свободны от водорода.
机译:热电子真空电弧法(TWD)被描述为一种新的最合适的沉积高纯度薄膜的方法,该薄膜具有致密的结构和非常光滑的表面,方便获得具有纳米结构的薄膜。剧院可以在真空室内(包括高压条件下)产生纯金属等离子体源,从而通过喷涂材料的原子对所施加的薄膜进行有效的离子轰击。离子能量受到完全控制,甚至在沉积过程中可能发生变化。还介绍了应用碳薄膜的可能性;这些薄膜完全不含氢。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号