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Development of a polysilicon process based on chemical vapor deposition (Phase 1). First quarterly progress report, 6 October-31 December 1979

机译：基于化学气相沉积的多晶硅工艺的研制（相1）。 1979年10月6日第一次季度进展报告

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J. R. McCormick; A. Arvidson; F. Plahutnik; D. Sawyer; K. Sharp;
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年度 1980
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Development of a polysilicon process based on chemical vapor deposition (Phase 1). First quarterly progress report, 6 October-31 December 1979

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