Substrate defects; Electron microscopes; Critical size; Electron beams; Simulation; Printability; Specifications; Lithography;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:确定EUV掩模基板和空白的关键缺陷尺寸 - (PPT)
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:确定兔关键尺寸缺陷的家兔径向缺陷模型的构建
机译:EUV-CDa:EUV掩模布局的模式转换感知临界密度分析