Amorphous materials; Dielectric films; Rare earth compounds; Oxides; Interactions; Structural properties; Dielectric properties; Silicon; Rare earth elements; Atomic layer epitaxy; Hygroscopicity; Mosfet semiconductors; Silicides; Ternary compounds; France; Anisotropy; Reliability; Deposition; High temperature; Refractive index;
机译:烧结条件对属于ACu(3)M(4)O(12)高介电常数和低介电常数的CaCu3Ti4O12和La2 / 3Cu3Ti4O12陶瓷的微结构,介电,铁电和压敏电阻性能的影响(A =碱,碱土金属,稀土金属或空位,M =过渡金属)氧化物系列
机译:等离子体处理对甲基掺杂氧化硅低介电常数薄膜结构和电学性能的影响
机译:μ子自旋光谱研究的顺磁稀土氧化物ND2O3
机译:稀土氧化物介电常数中的结构效应:Nd {sub} 2o {sub} 3
机译:用于金属氧化物半导体器件的GaN上高介电常数氧化物的研究
机译:非氧化物电介质的介电常数和带隙的高通量从头算
机译:钇石榴石和稀土石榴石的介电常数,氧化镓的极化率以及氧化物加性规则