机译:正统缺陷选择刻蚀在研究GaN单晶,外延层和器件结构中的应用
机译:三阶光学非线性(Z扫描),双折射,光致发光,机械和蚀刻研究,用于光学器件应用的乙酰丙酸三水合乙酰水杨酸(MLM)单晶
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机译:用于器件的SiGe / Si系统中的SiGe层的选择性刻蚀研究
机译:用于器件应用的热原子层沉积和热原子层蚀刻
机译:玻璃热电改性蚀刻的研究及其在结构蚀刻中的应用
机译:用M / NEMS应用的磁控施加反应离子蚀刻多晶3C-SiC蚀刻研究