Silicon dioxide; Accelerated testing; Automation; Breakdown(Electronic threshold); Capacitors; Charge density; Control; Defects(Materials); Dielectric properties; Dormancy; Electric current; Electron beams; Electrons; Induced environments; Life span(Biology); Life tes;
机译:时间依赖性介质击穿和应力引起的泄漏电流对Gbit级DRAM高介电常数(Ba,Sr)TiO / sub 3 /薄膜电容器可靠性的影响
机译:Hfsion栅极介电硅Mos器件在[110]机械应力下的可靠性:随时间变化的介电击穿
机译:二氧化硅和再氧化氮化氧化物随时间的介电击穿的温度和电场特性
机译:从斜坡电流应力获得的电荷击穿转换为恒定电流应力的电荷击穿和时间击穿域
机译:在二氧化f和基于二氧化硅的金属氧化物-硅结构中,与偏置温度不稳定性和应力引起的泄漏电流有关的缺陷的磁共振观察。
机译:质子辐照对常断型AlGaN / GaN栅嵌入式金属-绝缘体-半导体异质结构场效应晶体管随时间变化的介电击穿特性的影响
机译:8ÅEOT HfO2 N-MOSFETS随时间变化的介电击穿和应力引起的漏电流特性