Silicon dioxide; Etching; Photolithography; Hydrogen fluoride; Reprints; Transferfunctions; Parameters; Tunneling(Electronics); Electronic scanners; Rates; Reactivities; Ion beams; Electron microscopy; Patterns; Masks; Pattern making;
机译:加气的HF / H2O蒸气中硅的金属催化化学刻蚀,可轻松制造硅纳米结构
机译:二氧化硅的各向异性气相HF蚀刻以释放Si微结构
机译:气相HF /蒸气热氧化硅膜蚀刻
机译:用无水HF蒸气蚀刻牺牲CVD二氧化硅
机译:用于纳米光刻掩模的二氧化硅的化学增强气相蚀刻
机译:通过以溶解氧为氧化剂的底物增强金属催化的硅化学刻蚀连续生产硅纳米线
机译:用于si微结构的各向异性蒸气HF蚀刻二氧化硅 发布