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机译:磁控溅射Bi2Sr2Ca1-xYxCu2Oy(0 <= x <= 0.5)薄膜的化学计量控制,成分扩散库:衬底偏压和气体密度因子
high-T-c films; Bi-based cuprates; cuprate superconductors (high-T-c and insulating parent compound); composition spread libraries; magnetron sputtering; stoichiometry; resputtering; substrate bias; CU-O FILMS; DISCOVERY; BISMUTH; TARGETS; SYSTEMS;
机译:磁控溅射Bi2Sr2Ca1-xYxCu2Oy(0 <= x <= 0.5)薄膜的化学计量控制,成分扩散库:衬底偏压和气体密度因子
机译:射频磁控溅射沉积La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_(三部分导数)薄膜的成分控制
机译:反应射频的显微组织和硬度磁控溅射Cr-V-O薄膜取决于成分和衬底偏置
机译:施加衬底偏置的RF磁控溅射在玻璃衬底上低温直接沉积多晶硅薄膜
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:磁控溅射的化学计量控制 Bi $ _2 $ sr $ _2 $ Ca $ _ {1-x} $ Y $ _x $ Cu $ _ $ $ O $ _y $(0 $ \ le $ x $ \ le $ 0.5)薄膜, 成分扩散库:基质偏差和气体密度因子