机译:射频磁控溅射沉积La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_(三部分导数)薄膜的成分控制
Materials Department, University of California, Santa Barbara, California 93106-5050;
机译:La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_(3-δ)薄膜中氧空位有序的原子分辨率原位冷却研究
机译:原子分辨率原位冷却研究LA_(0.5)SR_(0.5)COO_(3-δ)薄膜中的氧空位排序
机译:纳米晶La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_(3-x)薄膜的电化学性能
机译:纳米La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_(3-x)薄膜中的氧非化学计量
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:水溶液化学沉积控制K0.5Na0.5NbO3薄膜的相纯度和织构
机译:磁控溅射的化学计量控制 Bi $ _2 $ sr $ _2 $ Ca $ _ {1-x} $ Y $ _x $ Cu $ _ $ $ O $ _y $(0 $ \ le $ x $ \ le $ 0.5)薄膜, 成分扩散库:基质偏差和气体密度因子