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机译:气相分解/全反射X射线荧光在硅半导体制造环境中的应用
semiconductor; trace metal contamination; vapor phase decomposition (VPD); total reflection X-ray fluorescence (TXRF); inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS);
机译:气相分解/全反射X射线荧光在硅半导体制造环境中的应用
机译:通过监测散射X射线在气相分解-全反射X射线荧光光谱法中定位半导体晶片上干燥残留物的方法
机译:使用气相分解-液滴收集-全反射X射线荧光VPD-DC-TXRF)对硅晶片上的Pt组元素进行金属污染分析的研究
机译:使用气相分解的金属污染分析研究 - 硅晶片Pt-Gafers的全反射X射线荧光(VPD-DC-TXRF)
机译:聚硅烷聚合物基薄膜的化学气相沉积和表征及其在化合物半导体和硅器件中的应用。
机译:全反射X射线荧光法分析人血清中铜的含量
机译:通过气相分解/总反射X射线荧光分析Si晶片的光元素。